CORE TECHNOLOGY
核心技术
四大自主技术平台，构筑光导材料技术壁垒
基于自主研发的大幅面卷对卷微纳压印与卷对卷纳米材料沉积工艺技术平台，实现零排放、低能耗、洁净生产。
PLATFORM 01
光刻直写技术
Laser Direct Writing
利用绿光激光器及光束整形光路系统，实现所需的光斑质量，结合微机电自动移动（MEMS）平台，以激光直写方式在表面粗糙度 Ra0.008μm 的镜面钢板获得所需形状与排序的微结构模具。
绿光激光器光束整形
MEMS 三轴精密控制
Ra0.008μm 镜面钢板加工
高精度微结构模具制备
PLATFORM 02
微纳压印技术
Nanoimprint Lithography
大幅面微纳米压印及光刻技术（NIL）是一种全新的光学微结构器件制作方法，通过对聚合物的表面加温与受力变形而实现高保真的微结构转写。
大幅面微结构转写
高保真几何约束成型
聚合物热压变形工艺
精密脱模力学控制
PLATFORM 03
卷对卷微纳压印
Roll-to-Roll Nanoimprint
基于大幅面卷对卷微纳压印工艺技术平台，实现连续化、规模化生产，大幅提升产能与生产效率，满足大规模市场需求。
连续化卷对卷生产
规模化量产能力
高效率低成本
零排放洁净生产
PLATFORM 04
纳米材料沉积
Nano Material Deposition
基于卷对卷纳米材料沉积工艺技术平台，结合纳米浆料与热压成型技术，实现纳米粒子在光导与发光过程中的精确能量传递与利用。
卷对卷纳米沉积
纳米浆料配制
精确能量传递控制
发光效率优化